Filtr K&F Filtr UV Nano-X MRC CONCEPT do FujiFilm X100 X100S X100V X100F X100VI / KF01.2882

Filtr UV Nano-X MRC K&F CONCEPT do FujiFilm X100 X100S X100V X100F X100VI – Profesjonalna ochrona obiektywu

Filtr UV Nano-X MRC K&F CONCEPT to doskonałe rozwiązanie dla profesjonalnych fotografów korzystających z aparatów FujiFilm, w tym modeli X100, X100S, X100F, X100V oraz X100VI. Dzięki starannemu wykonaniu, ten filtr oferuje znakomitą ochronę obiektywu, co jest niezwykle istotne w każdej sytuacji fotograficznej.

Wysoka jakość i innowacyjne nano-powłoki

Filtr został wykonany z japońskiego szkła optycznego, co zapewnia wysoką transmisję światła na poziomie ponad 99,9%. Innowacyjne nano-powłoki, w liczbie 28, nie tylko poprawiają jakość zdjęć, ale również ułatwiają czyszczenie filtra, co jest kluczowe w codziennej pracy fotografa.

Redukcja odblasków i poprawa ostrości obrazu

Dzięki zastosowaniu nowoczesnej technologii, filtr skutecznie minimalizuje odblaski oraz podświetlenia, co przekłada się na nieskazitelną ostrość obrazu oraz żywe kolory. To sprawia, że każde zdjęcie jest pełne detali i intensywnych barw.

Wodoodporność i odporność na zarysowania

Filtr UV Nano-X MRC jest wodoodporny oraz odporny na zarysowania i uszkodzenia mechaniczne. Dzięki tym właściwościom, idealnie sprawdzi się w trudnych warunkach, takich jak zdjęcia nad morzem czy w górach, gdzie narażony jest na działanie niekorzystnych warunków atmosferycznych.

Magnetyczna rama filtra – łatwe łączenie z innymi filtrami

Przednia rama filtra jest magnetyczna, co umożliwia łatwe łączenie go z innymi filtrami K&F CONCEPT o średnicy 52 mm. To innowacyjne rozwiązanie sprawia, że korzystanie z filtrów staje się jeszcze bardziej wygodne i efektywne.

Zestaw zawiera solidne opakowanie do przechowywania

W zestawie z filtrem znajduje się solidne opakowanie, które zapewnia bezpieczeństwo podczas transportu oraz przechowywania. Dzięki temu możesz być pewien, że Twój filtr będzie zawsze w doskonałym stanie.

Przykładowe zastosowanie filtra K&F CONCEPT NANO-X MRC

Filtr UV Nano-X MRC K&F CONCEPT to doskonały wybór dla każdego fotografa, który pragnie uzyskać najwyższą jakość zdjęć. Sprawdzi się w różnych sytuacjach, od portretów po krajobrazy, zapewniając ochronę obiektywu oraz poprawiając jakość obrazu.

Specyfikacja techniczna filtra UV Nano-X MRC K&F CONCEPT

• Marka: K&F Concept
• Kod producenta: KF01.2882
• Średnica: 52mm
• Model: KF01.2882
• Rodzaj: UV
• EAN (GTIN): 6942052549561
• Typ szkła: Japońskie szkło optyczne
• Transmisja światła: Ponad 99,9%
• Liczba nano-powłok: 28
• Wodoodporność: Tak
• Odporność na zarysowania: Tak
• Typ ramki: Slim, aluminiowa
• Zawartość zestawu: 1x filtr UV, 1x solidne opakowanie

Zamów teraz, aby cieszyć się najlepszą jakością zdjęć z filtrem UV Nano-X MRC K&F CONCEPT!